calibre后端(calibre 插件)
原标题:calibre后端(calibre 插件)
导读:
数字IC后端设计实现培训教程之Innovus和ICC2中做物理验证LVS检查步骤_百...Innovus中的LVS检查步骤: PG短路检查: 使用命令verify_PG_s...
数字IC后端设计实现培训教程之Innovus和ICC2中做物理验证LVS检查步骤_百...
Innovus中的LVS检查步骤: PG短路检查: 使用命令verify_PG_short no_routing_blkg来排查电源地短路问题。 若存在PG短路,Calibre LVS在GDS抽样时会生成相关报告,指出短路网络。 加载Innovus并定位短路位置,然后修复问题。
在Innovus中进行LVS检查时,请遵循以下步骤: **PG短路检查 使用命令`verify_PG_short -no_routing_blkg`,排查电源地短路问题。若PR后数据库中存在PG短路,Calibre LVS在GDS抽样时会生成`lvs.rep.shorts`报告,报告中会指出相关短路网络。加载innovus并定位短路位置后,修复问题。
Innovus学习资源工具链定位:Innovus作为cadence后端核心工具,负责物理实现(布局、布线、时序优化)。虚拟机内已配置完整流程环境,可直接调用台积电/中芯国际工艺库进行实践。学习路径建议:基础操作:通过虚拟机内教程掌握GUI界面与命令行操作。工艺库加载:学习导入LEF/DEF文件、设置设计规则约束(DRC)。
CADence、virtuoso、ic618、calibre、adel、spice、spectre之间的关系...
Spectre 是 cadence 在 SPICE 基础上发展出的高性能商业化仿真器。 Calibre 与 VirtUOSo: Calibre 原由 Mentor Graphics 开发,现属西门子 EDA,用于 IC 后端设计和验证。

功能定位差异Virtuoso是Cadence公司推出的芯片级集成开发环境,覆盖从前端设计到后端验证的全流程。
在Virtuoso的Hierarchy Editor窗口中,找到要仿真的模块。设置SPICE源文件为提取的寄生网表。保存设置并重新计算hierarchy,以确保寄生网表被正确加载。检查SIMulator设置:在ADEL窗口中,检查Simulator设置,确保选择的是spectre。这一步骤是为了避免因配置错误导致的仿真问题。
开始安装Cadence系列软件,首先从IC618开始。在Linux的home目录下新建一个名为eda的文件夹,进一步创建一个cadence子目录,以及一个mentor文件夹。将IC61SPECTRE18和calibre2019安装包以及patch工具复制到虚拟机,可能需要在tmp/VMwareDnD找到并剪切到目标位置。
第七步,安装IC618(VIRTUOSO)。安装过程与innovus类似,但在配置界面中选择no选项处理license和OA相关设置。使用1patch工具完成破解步骤。第八步,安装SPECTRE21。执行1patch命令进行破解,编辑/sysname文件以调整环境设置。确保软件能正确识别操作系统环境。第九步,设置CALIBRE2022。
后仿真过程中,提取calibre寄生参数PEX的具体步骤值得记录和参考。首先,确保在Virtuoso中进行配置,新建一个config文件,选择合适的bench和cell,设置library、Cell和Type。然后,创建一个名为spectre的模板,配置好top Cell和Global Bindings,点击保存后,通过Hierarchy Editor窗口调用版图提取的寄生网表。
calibre添加dummy后,金属密度不够
1、在使用Calibre添加dummy后金属密度不够,可以通过以下方法来解决:手动调整dummy的添加:在layout确定面积和布局后,特别是在连线LVS DRC clean后,以及CHIP-top完成后,进行dummy的填充。
2、另外,在bonding(键合)过程中,如果bonding区域与旁边金属密度相差过大,可能会导致芯片破裂。添加流程以景芯5GHz A72为例,添加dummy的流程如下:完成布局布线:首先完成电路的布局布线工作。导出GDS文件:将布局布线后的结果导出为GDS文件。GDS合并:对导出的GDS文件进行合并操作。
3、景芯5GHz A72的Dummy添加主要基于Calibre工具对布局布线后的GDS文件进行操作,目的是满足版图密度要求并提升良率,同时需考虑先进工艺下Dummy对时序的影响。
4、解决方案:检查并调整macro之间的间距和keepout margin,确保在空旷区域内插入足够的dummy,以满足设计规则要求。同时,对于macro之间的channel,可以只加soft blockage,预留给工具插buffer以解决timing问题。总结:本文针对TSMC 28nm和TSMC 12nm工艺中常见的Calibre DRC Violation进行了案例解析。
5、这类DRC通常涉及base layer,是由于filler缺失或填充不足导致。它们会在整个设计中高亮显示,可能是cell重叠或filler问题。VIAEN.12 这类DRC出现在memory区域,尤其是M4 pg pin位置,由enclosure包边问题引起。M4金属走线靠近pin时,可能导致DRC Violation。



